Alumina Ceramic Vacuum Chuck

Semicorex Alumina Ceramic Vacuum Chuck partes essentiales agit in laganum extenuantibus et stridoribus augmentis vestibulum semiconductoris. Hi gradus involvunt meticam reductionem lagani crassitudinem subiectae ad augendae spumae caloris dissipationem, quae est vitalis ad augendam efficientiam et longitudinis semiconductoris machinas. Tenui lagana ad specificas specificationes etiam pendet ad technicas sarcinas provectas expediendas.

Compatibilitas cum Multiple Wafer Amplitudo

Alumina Ceramic Vacuum Chuck destinatur ad sustinendas amplitudines lagani latas, inter 2, 3, 4, 5, 6, 8, et 12 pollices. Haec aptabilitas idoneus facit ad amplum ambitus semiconductoris productionis ordinatam, ut per diversas dimensiones laganum constantem et certam effectus perficiat.

Superior Materia Compositio

Basis Aluminae Vacui Ceramici Chuck constructa est e ultra-pura 99.99% Alumina (Al2O3), quae eximiam resistentiam chemicis oppugnationibus et scelerisque stabilitati praebet. Adsorptio superficiei carbide pii rari (SiC). Foedus et uniformis structura materiae ceramicae raritatis auget suam vetustatem et effectum.

Beneficia Micro-porosa Ceramic Technologiae

Consectetur Flatitudo et Parallelismus: Micro-porosum Alumina Ceramicum Vacuum Chuck libera planiciem eximiam et parallelismum, ut subtilis laganum pertractatio et stabilitas impendat.

Porositas et Breathability: Bene distributa Micro-pori superiori aere permeabilitatem et vim adsorptionem uniformem praebent, ducens ad operationem levem et constantem.

Materia Puritas et Durabilitas: Ex 99,99% puro Alumina, nostra Alumina Ceramic Vacuum Chuck resistit oppugnationibus chemicis et stabilitatem praestantem praebens scelerisque, aptam faciens ad culturas culturas exigendas.

Consilia consueta: varias figuras customizabiles offerimus, inclusas circulares, quadratas, tragulas et consilia L informibus, cum optionibus crassitudine vagantibus ab 3MM ad 10MM. Haec consuetudo efficit ut nostra Alumina Ceramic Vacuum Chuck occurrat specificas necessitates diversarum processuum fabricationis semiconductoris.

Diversae bases materiales Optiones: Ex requisitis ad planitiam et productionem gratuita, commendationes praebemus pro diversis materiis basi, ut SUS430 ferrum immaculatum, Aluminium Alloy 6061, Alumina densa ceramic (coloris eburnei), granite, et carbide densa ceramica silicon. Unaquaeque materia eligitur ad optimize pondus ac faciendum Alumina Ceramic Vacuum Chuck.