CVD and CVI Vacuum fornace

Semicorex magna-scalarum opificem et elit Siliconis Carbide producta in Sinis coated. Fornaces solutiones consuetudinis praestamus. Nostra CVD et CVI Fornax Vacuum bonum pretium habet commoda et multa mercatus Europae et Americanae operiunt. Expectamus ad longum tempus socium decet.

Mitte Inquisitionem

depictio producti

Semicorex CVD et CVI Fornax Vacuum summus qualitas est instrumentum ad processum chemicum vaporum depositionis (CVD) destinatum. Temperaturarum reactio usque ad 2200°C. Magnas materias deponere, cum carbide pii, nitride boron, graphene et pluribus valet. Fornax CVD consilium robustum habet et fit ex materia qualitate alta, ad firmitatem et firmitatem ad diuturnum usum praestandum. Habet structuras tam horizontales quam verticales.

Applicatio:C/C composita fregit discus, uasculum, fingunt et etc.

Features of Semicorex CVD et CVI Vacuum Fornacis

1. Robustus designatus materiarum qualitas ad diuturnum usum;

2.Precise moderata partus gasi per usum moderatoris massae defluunt et valvulae qualitates altae;

3. Equipped lineamentis tuto, ut tutelae nimis temperaturae et deprehensio Leak gasi ad operationem tutam et firmam;

4. Usura multiplex temperatura zonarum moderatio, magna temperatura uniformitas;

5. Praesertim camerae depositionis designatae cum effectu bono signandi et magni anti-contaminationis effectui;

7. Curatio bituminis, pulveris solidi et vaporum organicorum in processu depositionis habet

Features libitum:

• Fornacis ostium: cochlea / hydrau / manual genus elevation, validam ostium / parallel ostium (magnitudine magna

fornacis portae); manual stricta / auto- cincinno-anulum stricta

• Fornax vas: omnia chalybea,/astra interior intemerata chalybs, omnis chalybs immaculata

• Fornax calidum zonam: mollis ipsum sensit / mollis graphite sensit / rigidum compositum sensit / CFC

• calefacere elementum et muffle: torcular graphite isostatic / puritas alta, robur et densitas graphite / graphite denique magnitudine

• Processus gas system: volubilis/massa fluens-meter

• Thermocouple: K type/N type/C type/S type

Specifications of CVD Fornace
Model	Working Zonam Location (W H L) mm	Maximilianus. Temperatus (°C)	Temperature Uniformitas (°C)	Ultimum Vacuum (Pa)	Pressura crescite Rate (Pa / h)
LFH-6900-C	600×600×900	1500	±7.5	1-100	0.67
LFH-10015-C	1000×1000×1500	1500	±7.5	1-100	0.67
LFH-1220-C	1200×1200×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-1530-C	1500×1500×3000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-2535-C	2500×2000×3500	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D3050-C	φ300×500	1500	±5	1-100	0.67
LFV-D6080-C	φ600×800	1500	±7.5	1-100	0.67
LFV-D8120-C	φ800×1200	1500	±7.5	1-100	0.67
LFV-D11-C	φ1100×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D26-C	φ2600×3200	1500	±10	1-100	0.67

* Superiores parametri ad processum requisita accommodari possunt, non sunt ut vexillum acceptationis, speciei speciale. in propositione technica et pactis dicentur.