Quid sunt in annulos etching

In chip fabricandi, photolithographiae et engraving sunt duo gradus arcte inter se coniuncti. Photolithographia praecedit etching, ubi exemplar laganum in usu photoresist ambitus augetur. Etching ergo cinematographica cinematographica a photoresist non obtecta removet, translationem exemplaris a persona ad laganum complens et ad subsequentes gradus quasi ion implantationem praeparans.

Etchingum involvit selectivam remotionem materiae superfluae adhibitis methodis chemicis vel physicis. Sequens tunica, resistunt membranae, photolithographiae, et progressionis, etchingum materias tenues supervacuas in superficie lagani expositas removet, solum areas desideratas relinquens. Excessus photoresista tunc removetur. Hos gradus repetens identidem efficit complexus ambitus integros. Ethatio quia involvit remotionem materialem, dicitur processus subtractivus.

Arida etching, etiam ut plasma etching, est modus dominans in semiconductor etching. Plasma etcherae late in duo genera collocantur secundum plasma generationis et technologiarum moderatio: capaciter copulata plasma (CCP) engraving et inductive iuncta plasma (ICP) etching. CCP etcherae principaliter adhibentur ad etching materias dielectricas, cum ICP etcherae principaliter adhibentur ad etching siliconis et metallis, et etiam conductor etchers nominantur. Dielectric etcherae oppugnant materias dielectricas ut oxydatum silicon, nitridum pii, et hafnium dioxidum, dum conductor etcherae materias silicones oppugnant (unius silicon cristallum, silicium polycrystallinum, et silicidium, etc.) et materiae metallicae (aluminium, tungsten, etc.).

In engraving processu, duo genera anulorum imprimis adhibebimus: umbilicum anulos et anulos clypei.

Focus Ring

Anulos exsequentes in clientibus necessariis. Si quid percontationes habes vel etiam singula egent, quaeso ne dubita nobiscum attingere.

Scutum Orbis

Typice extra electrode sita, eius primarium munus est scaenicis plasmatis obsistere. Secundum structuram, etiam partem electrode habere potest. Communes materias CVD SiC vel Pii crystalli simplicis comprehendunt.

Semicorex praebet summus qualisCVD SiCetPiiAnulos exsequentes in clientibus necessariis. Si quid percontationes habes vel etiam singula egent, quaeso ne dubita nobiscum attingere.

Contactus telephonicus # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com