PBN Crucibles

Semicorex pyrolytic boron nitride PBN cruces sunt praecisione, machinator components disposito ad occursum rigorous postulat de summus temperatus et ultra-pura processibus in industrias, ut semiconductor vestibulum, crystallum incrementum et vacuo applications. Fabuntur per chemical vapor depositione (cvd) processus, PBN crucibus offerre superior pudicitia, eximia scelerisque stabilitatem, et praestantes chemical inertness, faciens ea in materia electionis in provectis materials ipsum.

Quia boron nitride habet scelerisque expansion coefficiens comparari ad quod de quartz, sed ejus scelerisque conductivity est X temporibus, quod est ad redigendum est optimum scelerisque debitum ad XX ~ MCC ℃ sine ulla problems. In addition, boron Nitride non agere cum acida, alkalis, speculum et metallis, et habet humilis mechanica vires, tantum leviter altius quam graphite, sed non potest processionaliter metallum processui machinis, et non potest processionaliter metallum processui machinarum. Ergo est quidem apta usu ut cruciatur, vas, liquidum metallum partus pipe et fingunt ad ferro mittentes ad liquescens et evaporantating metalla.

Hoc est solet per eget vapor depositione usura boron-quibus Gas (BCL3 vel B2H6) sicut rudis materia, sed quia B2H6 est altus toxicus, BCL3 est currently usus est sicut rudis materia. Et boron-quibus Gas patitur Pyrolysis (MD ℃ MDCCC ℃) et reagit cum NH3 in summus temperatus reactionem ad formare solidum Boron Nitride. Quia Pyrolysis occurs in reactionem, quod etiam diciturpyrolytic boron nitrideCrucible (vulgo ut PBN cruces).

In incrementum processus in materia est similis "procidens nives", id est, in hexagonal BN Snowflakes crevit in reactionem sunt continue congestantur in calefacta Graphite subiecta (core fingunt). Tempus Sequitur, cumulus iacuit Cruens, formatam PBN Crusta. Demuntur est independens, pura PBN pars et PBN coating est reliquit in eam. Since the PBN crucibles do not need to go through the traditional hot pressing sintering process and does not need to add any sintering agent, it has a very high purity (more than 99.99%), and the operating temperature under vacuum is as high as 1800 degrees, and the operating temperature under atmosphere protection can reach up to 2100°C (usually nitrogen or argon). Est plerumque in evaporation / M. trabem epitaxy (MBE) / Gaas Crystalli incrementum et alia proposita.