Silicon Etching Annuli

Anuli siliconis etchingae partes essentiales sunt intra plasma etch thalamum CCP/ICP etch apparatum et circum laganum semiconductorem de more collocati sunt. Earum primariae functiones sunt ut laganum semiconductorem sustineant, distributionem plasmatis aequabilem servent, laganum marginem protegant, et sic condiciones operandi ad plasma etching processum optimales adiuvant.

Commoda Semicorex Pii etching annulorum

1. Premium materialis lectio

Semicorex Pii etching anuli fabricantur ex exquisito summo puritate MCZ .monocrystalline Pii, quae sequentes proprietates excellentes in conventionali CZ monocrystallini Pii offert.

princeps munditiae: Puritas est supra 99,9999999%, quod Semicorex Pii etching anulorum significat fere nullas immunditias continet. Haec puritas ultramontanas efficaciter vitare potest impedimentum ab immunditiis componentibus in processu schismatico, altam indeclinationem praecisionis praestans.

Stabilis structura: MCZ monocrystallina siliconis notat superiorem cristallinae structuram cum defectibus inferioribus quam institutum CZ monocrystallini Pii. Haec structura crystalli stabilis semicorex siliconis etching anulis aucta resistentia ad plasma corrosionis auget et efficit ut condiciones operativas etingificationes duras sustineat.

Praeclara resistivity uniformitas;Semicorex Pii etching annuloslibera resistentia eximia uniformitatis cum RRG < 5%. Humilis Res. (<0,02 Ω·cm), Res Mediae. (0,2–25 Ω·cm), High Res. (>100 Ω·cm). Praeclara haec resistivity uniformitas potest minuere plasma inaequalis distributionis, quae resistivity nimis alta vel minore causatur, quae ad optimum campum electricum pro summo praecisione plasmatis etchingae confert.

2. Subtilitas processus et qualitas inspection

Semicorex iactat peritiam technicam turmam, quae personalizatio et technicae aestimationes personales pro nostris clientibus aestimandis praebere potest et etiam processui systematicam et inspectionem procedendi ad praestationem producti qualitatem stabilivit.

Operas customizationes flexibiles: Semicorex sustinet customizationem sumptam in drawings mos, et consuetudo maxima diametri siliconis etching annulorum usque ad 470mm esse potest.

Superficies summus vexillum tractatio: politio subtilitas intra Ra < 0.1 µm stricte coerceri potest, et finis stridor superficies conficit Ra > 0.1 µm.

Inspectio stricta qualitas: Mensuratio dimensiva, probatio resistentiae, et inspectio visualis capietur ut annuli siliconis enigmata sint immunes a chippis, exasperat, rimas, maculas et alios defectus.