TaC graphite coating creatum est superficies graphitae altae puritatis substratae cum strato subtilissimo carbidi tantali per processum proprietatis chemici Vaporis Depositionis (CVD).
Tantalum carbide (TaC) compositum est quod ex Tantalo et carbone constat. Habet metallicum electricam conductivity et punctum extraordinarium liquationis, eamque facit refractariam materiam ceramicam propter fortitudinem, duritiem, calorem et vim resistentiae suae notae. Punctum Tantalum Carbides liquescens cacumina circiter 3880°C puritate fretus et unum punctum ex altissimis punctis liquescens inter composita binaria habet. Hoc modo carum facit, cum temperatura superior petit facultatem perficiendi facultatem adhibitam in semiconductoribus compositorum processuum epitaxialem ut MOCVD et LPE.
Materia notitia Semicorex TaC Coating
Projects |
Morbi laoreet |
Densitas |
14.3 (gm/cm³) |
Emissio |
0.3 |
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
Duritia (HK) |
2000 |
Resistentia (Ohm-cm) |
1×10-5 |
Scelerisque Stabilitas |
<2500℃ |
Graphite Dimension Mutatio |
-10 ~ -20um (referat valorem) |
Coing Crassitudo |
≥20um valorem typicum(35um±10um) |
|
|
Quod supra sunt typicam values |
|
Semicorex TaC Coating Half-luon est praecipua componentis fabricata ex tantali carbide (TaC) graphite obductis, usui in processibus epitaxialibus destinata. Semicorex committitur ad comparandas qualitates in pretiis competitive, exspectamus ut diuturnum tempus particeps tua fiat in Sinis.
Lege plusMitte InquisitionemSemicorex TaC Coating Chuck, ora secans vacuum monax instructa cum tunicis TaC, specie destinatis fornacibus semiconductoribus. Semicorex committitur ad comparandas qualitates in pretiis competitive, exspectamus ut diuturnum tempus particeps tua fiat in Sinis.
Lege plusMitte InquisitionemCertum esse potes emere TaC Coating Tabellam ex officina nostra Epitaxial. Semicorex TaC (Tantalum Carbide) lamina epitaxialis efficiens iactat resistentiam caloris eximiam, faciens eam specimen applicationum calidis temperaturis subiecta. Praeclarum eius facultatem calor sustinendi firmitatem et constantiam in ambitibus quaerendis efficit. Semicorex committitur ad comparandas qualitates in pretiis competitive, exspectamus ut diuturnum tempus particeps tua fiat in Sinis.
Lege plusMitte InquisitionemSemicorex TaC Coated Plate est discus peculiaris usus in processibus epitaxialibus SiC designatus, cum subtilitate ex materia graphite alta quali- ficat. Superficies eius cum tantalo carbide adamussim obducta est (TaC), composita propter eximiam puritatem et fortitudinem cognitam. Semicorex committitur ad comparandas res qualitates in pretia competitive, expectamus ut diuturnum tempus particeps tua fiat in Sinis.
Lege plusMitte InquisitionemSemicorex TaC Coating Jig stat quasi elementum cardo intra semiconductorem processus fabricandi, adamussim ex graphite fabricatus et cum strato molli carbidi tunicae Tantali munitus est. Hoc elementum apparatu crucialorum involvit fusionem materiae aciei scientiarum et subtilitatis machinalis, destinata ad exigentias operationales restrictas sustinendas et signa exigenda in fabricatione semiconductoris praevalens. Semicorex committitur ad comparandas qualitates in pretiis competitive, exspectamus ut diuturnum tempus particeps tua fiat in Sinis.
Lege plusMitte InquisitionemSemicorex TaC Coating Susceptor pinnaculum in machinatione materiali significat, adamussim fabricata ab graphite alta qualitate et carbide tunica munitum. Praesertim machinatus pro functione intra crystallum incrementum SiC et processuum epitaxialem SiC, haec pars nova stat sicut pharus durabilitatis et effectus in ambitu maximorum scelestorum et chemicorum. Semicorex committitur ad comparandas qualitates in pretiis competitive, exspectamus ut diuturnum tempus particeps tua fiat in Sinis.
Lege plusMitte Inquisitionem