Susceptores pro MOCVD Reactors

Susceptores semicorex pro MOCVD Reactores summus qualitas producta in semiconductoris industria adhibita sunt pro variis applicationibus sicut carbida pii strata et epitaxia semiconductor. Productum nostrum praesto est in figura calces vel anuli et ordinatur ad resistentiam oxidationis summus temperaturas, faciens stabilitatem in temperaturis usque ad 1600°C.

Mitte Inquisitionem

depictio producti

Susceptores nostri pro MOCVD Reactores fiunt per CVD vaporum chemicorum depositio sub condiciones chlorinationis summus temperatus, altam puritatem procurans. Superficies producti est densa, cum particulis subtilibus et duritie alta, eam faciens corrosio-repugnans acido, alcali, sale, et reagentibus organicis.
Susceptores nostri pro MOCVD Reactores ordinantur ad efficiendam in omnibus superficiebus, decorticationem evitandi, et ad optimam laminae gasi fluxum exemplar assequendum. Productum aequabilitatem profile scelerisque in tuto collocare ac contagione vel immunditiae diffusionem impedit in processu, quo summus qualitas consequitur.
Apud Semicorex, satisfactio emptoris prioritizamus et solutiones sumptus efficaces praebemus. Expectamus ad longum tempus socium fieri, praecipuos qualitas products et eximias servitutis emptores tradens.

Parametri Susceptores pro MOCVD Reactors

Specificationes principales de CVD-SIC Coating .
Sic-CVD Properties
Crystal Structure	FCC β phase
Densitas	g/cm	3.21
duritia	Vickers duritia	2500
Frumenti Size	μm	2~10
Puritas chemica	%	99.99995
Calor Capacity	J kg-1 K-1	640
Sublimatio Temperature	℃	2700
Fortitudo Felix	MPa (RT 4-punctum)	415
Modulus	Gpa (4pt bend, 1300℃)	430
Scelerisque Expansion (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Scelerisque conductivity	(W/mK)	300

Features of Sic Coated Graphite Susceptor pro MOCVD

- Vitare DECORTICATIO et curare coating in omnibus superficies
Temperatus oxidationis resistentiae: Stabilis temperaturis calidis usque ad 1600°C
Alta puritas: facta per CVD depositionem vaporis chemici sub conditionibus caliditatis chlorinationis.
Corrosio resistentia: durities alta, superficies densa et particulae minutissimae.
Corrosio resistentia: acidum, alcali, sal et reagentia organica.
- Consequi optimum laminae gas fluxus exemplaris
- Guarantee aequitate profile scelerisque
- Ne quis contaminationem vel immunditiam diffusionis