VIII-inch Waferholder Annulorum

VIII semicorex inch Waferholder annulos sectiones-ora semiconductor processus hardware intendebat ut secure et firmamentum Silicon lana tuto per momenti scelerisque, etching, et depositione processibus. Construitur ex summus qualitas graphite cum densaSilicon Silicon Carbide (SIC)Nam adiecit vires, in laganum possessor anulum cedit superior scelerisque stabilitatem, chemical resistentia, et mechanica vires, reddendo idealis ut CVD (eget vapor depositione) Pecvd et epitaxy systems.

Key Features:

Material compositionem:

Subiectum materia estsummus puritate GraphiteQuae est electus ad excelsum scelerisque conductivity et structurarum homogeneity. Summus density et uniformisSilicon Carbide (sic) film coatingapplicantur super superficiem, exhibens altus resistentia ad oxidatio et eget impetum usque ad elevatum temperaturis excessu M ° c. Et mixtisque habet fasciae vita longis et minimal periculo contagione lagana.

Secure laganum positioning

Designed praecipue tenere VIII-inch (CC mm) waferhedholder anulum tenet precise tolerances et optime disposito interiorem geometria ad tenaci tenaci laganum. Anulus manet firmum in loco in scelerisque cycling et Gas fluxus, minimizing micro-motus, quae ducere particulam creaturae vel lagestris fractio.

Thermal uniformitatem:

In se inhaerent scelerisque conductivity de graphite subiecta et stabilitas de sicco coating curare consistent calor translatio super laganum superficiem. Hoc results in consistent processum results, reducitur scelerisque accentus et magis fabrica cede.

Chemical & Pure resistentia:

Et sic superficiem protegit in graphite core a dura processus Plasmas et vapores, offering resistentiam ad iterari processus cycles. Chemical inertness est maxime prodest in mordax halogen-quibus etchant et reactive Gas environments.

Customization available:

VIII-inch waferholder annulos potest esse mos-disposito in occursum propria apparatu vel processus requisita, i.e., variationes in ore suscipio consilium, location of foramina et ascendens configuratione. Nostrum designers opus cum Oems et Fabs providere summum perficientur potest ad invicem usum.

Applications:

• LPCVD / Pecvd / APCVD
• Epitaxial incrementum processus
• Furnorum Diffusio
• Summus temperatus annealing
• Alius semiconductor scelerisque processui systems

Omnis VIII-inch Waferholder Annulorum patitur rigorous inspectionem sicut ratio accuracy verificationem, coating adhaesionem test, et scelerisque cycling absolute. Nostra provectus vestibulum technology ensurs uniformis sic coating crassitudine et optimis superficies metam perficere semiconductor industria altum postulat.

VIII semicorex inch weferverholder annulos (sic-iactaret Graphite) sunt essentialis apparatu pro altera-generationem semiconductor productio, providing mechanica praecisione, material diuturnitatem, et eget stabilitatem. Ex processus apparatu upgrades ad constructione altera-generation lana platforms, hoc productum praebet reliability et perficientur opus ad enable hodiernae postulantes productio productio productio productio productio productio est enable hodie environments.