Finis Ceramic Effector

Semicorex particeps tua est ad componentes graphites provectos et conventus ad altiora perputa sustinenda et meliora in instrumento processus semiconductoris tui cedit. Periti materiae nostrae parati sunt ad operandum apud te ut solutionem optimalem rectam excolere pro lagano tractatu, calefactione et processu exigentiis tuis. Noster Ceramicus End Effector operae pretium bonum habet et multas mercatus Europae et Americanae operit. Expectamus ad longum tempus socium in Sinis fieri.

Mitte Inquisitionem

depictio producti

Ceramicus finis effectoris est manus robotae quae semiconductor lagana inter positiones laganum in apparatu processui et portantium movent. Finis effector dimensionaliter definitus ac scelerisque stabilis esse debet, dum superficiem levem, abrasionem renitentem habens, ut lagana tuto tractat sine machinis damnosa vel contaminationem particulatam producens. Noster summus puritatis pii carbide Ceramic End Effector praebent resistentiam superiorem calorem, etiam thermarum uniformitatem ad crassitudinem et resistentiam epi- strati consistentis, et resistentiam chemicam durabilem.

Apud Semicorex nos intendimus ut summus qualitas, cost-efficax finis effectoris Ceramici, prioritize satisfactio emptoris et solutiones sumptus efficaces praebeamus. Expectamus ad longum tempus socium fieri, praecipuos qualitas products et eximias servitutis emptores tradens.

Parametri Ceramic Finis Effector

Specificationes principales de CVD-SIC Coating .
Sic-CVD Properties
Crystal Structure	FCC β phase
Densitas	g/cm	3.21
duritia	Vickers duritia	2500
Frumenti Size	μm	2~10
Puritas chemica	%	99.99995
Calor Capacity	J kg-1 K-1	640
Sublimatio Temperature	℃	2700
Fortitudo Felix	MPa (RT 4-punctum)	415
Modulus	Gpa (4pt bend, 1300℃)	430
Scelerisque Expansion (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Scelerisque conductivity	(W/mK)	300