Etching Portitorem pro PSS Etching

Semicorex scriptor Etching Portitorem Holder pro PSS Etching machinatum est pro maximis applicationibus apparatu epitaxy flagitante. Tabellarius noster ultra-purus graphitus duras ambitus, caliditates, et purgationes chemicas duras sustinere potest. Tabellarius SiC obductis proprietates excellentes caloris distributiones habet, magna conductivity scelerisque, et sumptus-efficax est. Producta nostra late in multis mercatibus Europaeis et Americanis adhibentur, et exspectamus ut diuturnum tempus socium tuum in Sinis fieri expectamus.

Mitte Inquisitionem

depictio producti

Apud Semicorex designavimus Holder Etching Portitorem PSS Etching specialiter ad asperos ambitus ad incrementum epitaxialem et laganum processuum tractandorum requisiti. Noster tabellarius ultra-purus graphitus est specimen pro phases tenuis depositionis sicut MOCVD, epitaxiae susceptores, subcinericium vel suggestuum satellitem, et laganum processus tractandi ut engraving. SIC tabellarius iactaret altum calorem et corrosionem resistentiam habet, optimum calorem proprietatum distributionis, ac magna conductivity scelerisque. Nostra producta sunt sumptus-efficax et bonum pretium commodum praebent.

Contactus nos hodie ut plura de nostro Etching Carrier Holder discamus pro PSS Etching.

Parametri Etching Portitorem pro PSS Etching

Specificationes principales de CVD-SIC Coating .
Sic-CVD Properties
Crystal Structure	FCC β phase
Densitas	g/cm	3.21
duritia	Vickers duritia	2500
Frumenti Size	μm	2~10
Puritas chemica	%	99.99995
Calor Capacity	J kg-1 K-1	640
Sublimatio Temperature	℃	2700
Fortitudo Felix	MPa (RT 4-punctum)	415
Modulus	Gpa (4pt bend, 1300℃)	430
Scelerisque Expansion (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Scelerisque conductivity	(W/mK)	300