- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
News
Heteroepitaxy of 3C-SiC: An Overview
Explicatio 3C-SiC, notabilis polytypum carbidi pii, continuam progressionem scientiae materialis semiconductoris reddit. Annis 1980s, Nishino et al. primum effectum cinematographicum 4 µm crassum 3C-SiC in substratum siliconis utens depositione vaporum chemicorum (CVD) [1], fundamento technologiae 3......
Lege plus
Summus puritas CVD Creber Sic: Processus Insights ad Material Augmentum
Crassae, summae carbidi pii puritatis (SiC) stratae, 1mm typice excedentes, criticae partes in variis applicationibus summi pretii sunt, inter fabricationem semiconductorem et technologias aerospace. Articulus hic in Depositionem Vaporis Chemical (CVD) processum habet ad tales stratas producendos, i......
Lege plus
Monocrystallini pii polycrystallini pii vs
Unius Pii crystalli et pii polycrystallini singulae suas habent utilitates singulares et missiones applicabiles. Unius Pii cristallus electronicis productis et microelectronicis ob excellentes electricis et mechanicis proprietatibus suis praestantibus obeundos convenit. Pii Polycrystallinus, ex alte......
Lege plus
Subiectum et Epitaxy
In praeparatione lagani duo nexus nuclei sunt: unus est praeparatio subiecta, alter exsecutio processus epitaxialis. Subiectum, laganum diligenter ex semiconductore unius materiae crystalli confectum, protinus in laganum processum fabricandi ut basis ad machinas semiconductores producendas, vel ad......
Lege plus
Intellectus Depositio Chemical Vapor (CVD) Comprehensiva Overview
Depositio Vaporis chemica (CVD) est depositio cinematographica tenuis mobilis versatilis in industria semiconductoris late adhibita ad fabricandum qualitatem altam, conformia membrana tenuia in variis subiectis. Hic processus chemicas reactiones praecursorum gaseorum in superficie subiecta calidis i......
Lege plus
