Silicon Carbide vacuum Chuck

Silicon Carbide Vacuum Paul est momenti pars semiconductor vestibulum pro processibus repetita altum praecisione et humilis contaminationem. In vacuo chucks sunt fabricata ab altus-puritas raro silicon carbide Ceramics et providere optimum mechanica vires, scelerisque conductivity et chemical inertning et features ad rectissime dispensata pore structuram et features ad rectissime regulatae pore structuram et features ad rectissime regulatius pie structuram et features in accurate continent. Et Silicon Carbide vacuum Chuck est a munus adsorption fabrica factum ex Silicon carbide (microform) Ceramic materiam, quod innititur in vacuo negative pressura, electrostatic adsorption et mechanico. Vacuum chucks habere usum in semiconductors, photovoltaics, precise vestibulum et aliis applications, quae sunt extraordinarias princeps postulat pro materia altum temperatus resistentia, gerunt resistentia et munditia.

Basis estcancelloEst raro sic materia, quod habet praedictum aeris permeance per suam superficiem. Hoc modo est possibile ut tuto adsorb a laganum sine mechanica clamping et ideo immaterialize potentiale corporalis damnum vel contaminationem sample. Porosity de materia est arcte - typically habens a Porosity of 35-40% - providere propriis vacuo distribution sed etiam occurrens structural Requirements pro durabile scelerisque et mechanica cycling.

Wafer Vacuum chucksPlures ex durum superficiem pluribus foraminibus vel channels super superficiem. Per haec parva foramina, in Chuck potest esse connexa vacuum sentinam, quae facit vacuum effectus. Cum laganum posita in Paul vacuo sentinam vertitur et aerem trahitur per parvum foraminibus creando vacuo inter lagam et Paul. Hoc vacuo effectus gignit satis suctu firmiter attach lagam ad Paul superficiem.

Ceramic superficies saepe usus est in applications quod requirere princeps puritatem et eget stabilitatem. Ceramics sunt materiae produci per summus temperatus fusionem mineralium. Generaliter loquendo, Ceramics sunt electrica insulators et semiconductors et sublimes resistentiam ad scelerisque naufragii, exesa et damnum.

Smicorex Builds Custom Silicon Carbide vacuum Chuck ad Lorem scriptor Specifications pro rebus quasi dimensiones, Porosity, superficiem metam et patterns in vacuo Channeling. Ex nostris vestibulum mundus locus capabilities, ut optimis in humili particulata effusione et mundities ad accommodare mundities requiruntur omnes semiconductor facs et apparatu manufacturers.

Non possumus facere a Chuck pro aliqua amplitudo laganum a II-inch ad XII-inch lagana et accommodatam ad integrate in Chuck in plethora of laganum processui apparatu. Potest adhiberi pro fronte-finem processus et / vel retro-finem processus, faciens in Vacuum vacuo chuck frugi, precise, firmum et contagionem liberum modo wafer Support in Semiconductor FAB Workflow

Et Silicon Carbide vacuum Chuck est essentiale tool in hodiernae semiconductor vestibulum, combining optimum materiae et ipsum. Dura et adherentes reliability per scelerisque et eget extrema facere perfectam auxilium in processus applications quod includit, crescente, extenuantibus, Purgato et RTA. Per comparare Silicon vestri Carbide vacuum Chuck per semicorex et ut optimus materia castitate, consuetudinem solutions et reliable perficientur ad superior results per omnes laganum processus lineae.